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浮動拋光機理

浮動拋光機理,結晶材料在表面上存在很多晶格缺陷,因此,去除表面原子所需能量比破壞材料原子結合所需的能量小得多,兩物質表面的結合能分布出現(xiàn)重疊,因此,強度高的物質表
浮動拋光機理,結晶材料在表面上存在很多晶格缺陷,因此,去除表面原子所需能量比破壞材料原子結合所需的能量小得多,兩物質表面的結合能分布出現(xiàn)重疊,因此,強度高的物質表面原子有可能被強度低的物質表面原子沖擊而去除,即現(xiàn)實用軟質粒子來加工硬質材料,并且工件材料也不會發(fā)生塑性變形錯位。浮動拋光工件最外層表面原子和磨粒最外層表面原子,在接觸點的局部高溫高壓下發(fā)生相互擴散,降低了工件最外層表面原子的結合沖擊頻率,沖擊速度,工作與磨粒的表面原子結合能分布和相互擴散的難易程度,不純物原子侵入時工件最表層原子的結合能的降低比例有關。例如可用極軟的石墨和溶于水的LiF來拋光很硬的藍寶石。為了提高加工效率,可使用能與工件起固相反應的軟質磨料作拋光劑。
 

浮動拋光機理

傳統(tǒng)方法以硬質磨粒來拋光軟質工件,難以避免工件表面的損傷。但若選直徑極小的硬度粒子沖擊工件表面時,并控制好沖擊能量,只去除最外層表面原子,也不會使工件材料表層發(fā)生錯位。例如使用粒徑7nm的SiO2微粒子拋光軟質Mn-Zn鐵氧體和LiNbO3等單晶工件,不會產生錯位和增殖,但加工中要避免大的粒子混入。

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本文“浮動拋光機理”由科眾陶瓷編輯整理,修訂時間:2017-06-14 14:57:02
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